與非網 9 月 30 日訊,臺積電今年初發生光阻劑事件,近月又有日本管控對韓國關鍵半導體材料出口,當中也出現光阻劑,這市場規模只有不到 20 億美元的產業,但卻成為半導體產業重要的核心材料。

 

光阻,亦稱為光阻劑,是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術,可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。

 

光阻有兩種,正向光阻(positive photoresist)和負向光阻(negative photoresist)
正向光阻:其照到光的部分會溶于光阻顯影液,而沒有照到光的部分不會溶于光阻顯影液。
負向光阻:其照到光的部分不會溶于光阻顯影液,而沒有照到光的部分會溶于光阻顯影液。

 

光阻劑是光刻過程的關鍵核心材料,質量能直接決定 IC 產品的性能、良率。伴隨著晶圓代工進入先進制程,其所需光阻劑分辨率的提升及多次圖形化技術的應用,帶動光阻劑的成本比重及市場規模將不斷上升。

 

進入到 5G 世代,芯片整合逐漸提升,配合半導體產品小型化、功能多樣化的要求,不斷透過縮短曝光波長提高極限分辨率,進而達到 IC 電路更高密度的結合,因此光阻劑的成長也不斷在進化。

 

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